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CY-MIOP500S-2TA多弧離子鍍鍍膜儀
多弧離子鍍是利用氣體放電或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)粒子轟擊作用的同時，將蒸發(fā)物或反應物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現(xiàn)象、等離子體技術和真空蒸發(fā)三者有機結合起來，不僅能明顯地改進了膜質(zhì)量，而且還擴大了薄膜的應用范圍。其具有蒸鍍速率快，薄膜附著力強，繞射性好，膜材廣泛等優(yōu)點。十分適合鍍硬質(zhì)保護膜如TiN等。同時由于其通過控制氣氛可以改變膜層顏色，且膜層與基板結合牢固，故也可用于制作多種顏色的裝飾性膜。
設計特色：
本設備配有兩個多弧靶，分置于腔體兩側(cè)。配合行星式樣品臺可有效的提高鍍膜效率，改善成效果，該鍍膜儀還采用一體化設計，腔體和電控部分左右分置，實現(xiàn)了水電分離，有力的保證了用戶的**。
技術參數(shù)：
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產(chǎn)品型號 |
CY-MIOP500S-2TA |
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真空腔體 |
水冷不銹鋼腔體 φ500mm X 490mm（H） 前開門式，配有φ100mm石英觀察窗 內(nèi)置兩組紅外加熱燈，可對腔體烘烤除氣 預留多個CF接口，可安裝多路膜厚儀 |
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進氣系統(tǒng) |
質(zhì)量流量計Ar氣0~200sccm， N2氣0~200sccm其他流量或者氣體可定制 |
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供電要求 |
AC 220V 50Hz 10kW |
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控制方式 |
15英寸觸控屏 組態(tài)控制軟件 |
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多弧靶 |
數(shù)量規(guī)格 |
3英寸x2 |
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安裝方式 |
腔體側(cè)方對置 |
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工作電流 |
0~150A |
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靶材厚度 |
max50mm，min20mm |
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樣品臺 |
規(guī)格 |
行星式掛架 |
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可懸掛樣品數(shù) |
每支掛架上6個掛點，共計6個掛架 |
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轉(zhuǎn)速 |
公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速1~20rpm |
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真空系統(tǒng)
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產(chǎn)品型號 |
CY-GZK103-A |
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分子泵 |
渦輪分子泵 |
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前極泵 |
雙極旋片泵 |
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抽氣速率 |
分子泵：600L/S |
綜合抽氣性能：30分鐘真空度可達：5×10E-3Pa |
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旋片泵：1.1L/S |
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極限真空 |
5×10E-4Pa |
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抽氣接口 |
KF40 |
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排氣接口 |
KF16 |
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真空測量 |
復合真空計 |
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