- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
卷對卷式PECVD技術參數：
|
1200℃雙溫區(qū)管式爐 |
供電電壓 |
AC220V，50Hz |
|
*大功率 |
3KW |
|
|
加熱溫區(qū) |
雙溫區(qū) 200mm+200mm |
|
|
工作溫度 |
≤1200℃ |
|
|
控溫精度 |
±1℃ |
|
|
控溫方式 |
AI-PID 30段工藝曲線，可存儲多條 |
|
|
爐管材質 |
高純石英 |
|
|
爐管尺寸 |
φ80mm I.D x 1400mm L |
|
|
密封方式 |
不銹鋼真空法蘭 |
|
|
真空測量 |
電阻規(guī) |
|
|
工作氣體 |
氫氣、氮氣、氬氣、氧氣等非腐蝕性氣體 |
|
|
真空泵 |
雙極旋片式真空泵 |
|
|
極限真空度 |
10^-1Pa |
|
|
三路質量流量計 |
閥門類型 |
不銹鋼針閥 |
|
氣路數量 |
三路 |
|
|
承壓范圍 |
0.05~0.3MPa |
|
|
量程 |
1~100 SCCM（Ar） 1~200 SCCM（H2） 1~500 SCCM (CH4) |
|
|
流量控制范圍 |
±1.5% |
|
|
混氣罐容積 |
750mL |
|
|
氣路材料 |
304不銹鋼 |
|
|
管道接口 |
6.35mm卡套接頭 |
|
|
供電電源 |
AC220V 50Hz |
|
|
S射頻電源 |
輸出功率 |
500W |
|
輸出精度 |
±1% |
|
|
射頻頻率 |
13.56MHz |
|
|
射頻穩(wěn)定度 |
±0.005% |
|
|
冷卻方式 |
風冷 |
